安陽高新區(qū)國家級示范生產(chǎn)力促進中心
Anyang High-tech Zone National Demonstration Productivity Promotion Center
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| 專利類別 :發(fā)明專利 | 專利號 ： 202222810353.0 | 申請日期 ： 2022-10-25 |
| 公開日期 ：2023-07-14 | 專利名稱 ： 一種高精度真空烘箱 | 專利權(quán)人 ：安陽師范學院 |
| 國際分類號： 暫無 | 范疇分類號 ： 暫無 | 行業(yè)分類 ： 暫無 |
| 詳情介紹: 本實用新型公開了一種高精度真空烘箱，包括底座，所述底座的頂部設(shè)置有真空烘箱主體，所述真空烘箱主體的左側(cè)開設(shè)有加熱槽，所述加熱槽的內(nèi)腔設(shè)置有加熱板，所述真空烘箱主體的內(nèi)腔設(shè)置有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的頂部開設(shè)有凹槽，所述底座的右側(cè)開設(shè)有第二凹槽，所述第二凹槽的內(nèi)腔固定連接電機，所述真空烘箱主體的內(nèi)壁開設(shè)有安裝槽。該高精度真空烘箱，將需要真空烘干的半導體放在凹槽中，打開電機，帶動轉(zhuǎn)盤內(nèi)的半導體旋轉(zhuǎn)，利用加熱槽內(nèi)的加熱板以及蓋板上的真空泵，便可對真空烘箱主體內(nèi)的半導體進行均勻真空烘干，實現(xiàn)了對半導體高精度均勻烘干的目的，解決了現(xiàn)有的真空烘箱難以對半導體進行高精度均勻烘干的問題。 |
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